将于2008年12月开始量产

NEC东金开发出提高了噪音抑制效果的无卤防噪音薄膜“Busteraid EFX”，将于2008年12月开始量产。该薄膜为将其贴于噪音源头及传播路径处即可抑制噪音的薄膜状部件，共备有厚度在50μm～1mm之间的6种产品。具有产生的反射波等副作用小、信号波形几乎不变等优点。面向手机、笔记本电脑以及数码相机等电子产品。

此次，NEC把可有效抑制噪音的透磁率（μ）提高到了100。而该公司原来的高透磁率无卤“Busteraid EFR”的透磁率为60。一般情况下，提高噪音抑制效果是通过提高磁性材料自身的特性或增加薄膜填充的磁性材料实现的。不过，含有的磁性材料越多薄膜就越容易变脆，因此加工和柔性方面存在难题。此次，为了实现把更多的磁性体添加进薄膜也不会损坏其柔性，该公司在提高磁性材料自身特性的同时，还提高了与树脂的亲和性。患有心肌梗塞该怎么办
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